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nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統是由摩方精密自主研發的超高精度微尺度3D打印系統。設備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術，是目前行業極少能實現超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統。
更新時間：2024-09-18
產品型號：nanoArch S130
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摩方超高精度光固化3d打印機microArch® S230 2μm高精度微納3D打印系統，基于BMF摩方的技術?面投影微立體光刻技術（PμSL）構建。全自動水平調節系統：平臺自動調平、膜面自動調平、滾刀自動調節三大系統，打印效率提升近50倍。
更新時間：2024-09-18產品型號：microArch® S230A瀏覽量：644
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